2021年3月17-19日，第十六届慕尼黑上海光博会在上海新国际博览中心顺利举办。本届展会共吸引了1094家企业参展，展示面积达到63,500平方米，在防疫防控及安全观展方针的指引下，展会三天共接待了79,453名专业观众莅临现场参观。Zemax 很荣幸参与本次盛会，与业界同仁在现场交流沟通。

本届展会 Zemax 在现场共举办了两场小型技术讲座，内容涉及优化速度提升以及可制造性分析与改善。Zemax 工程师在现场与大家分享了许多软件使用上的技巧。如果你没能前往现场参加这些技术讲座，可以通过观看我们的网络研讨

了解相关内容，以下是技术讲座相关内容概要：

全新OpticStudio版本中的优化速度提升及非序列 CAD 光线追迹速率提升
在全新版本的OpticStudio中，我们对于光学设计的分析、优化速度进行了进一步地提升。如今OpticStudio中的优化算法已得到改善，通过提升优化函数调用和计算的速率，对整体优化进行了提速。此外，在当前最新版本的OpticStudio中，我们在非序列模式内搭载了全新的 ACIS CAD 数据库，使得用户可以基于自定义的CAD物体进行更快速的非序列光线追迹和实时分析。

可制造性分析与改善
在高规格的要求下保证高良率生产是衡量设计质量的重要指标。在产品设计到量产过程中，公差分析，考虑制造缺陷和对准误差影响，是其中非常重要的一环。Zemax一直努力给工程师提供接近实际生产的可制造性分析环境。新版软件中新增6个翻滚公差操作数和3个径向偏心公差操作数供用户选择，让加工敏感度和良率的模拟过程中涉及公差的部分自由度更高，更加贴近实际场景。

此外，我们还在展会现场为大家提供了 Zemax 今年推出的新版 OpticStudio 与 OpticsBuilder 的上机试用。

本次 Zemax 的慕尼黑上海光博会之旅落下了帷幕，与各位同仁在现场交流沟通总是让人意犹未尽，让我们共同踏上新的征程，期待明年与您再次相遇！