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OpticStudio 20.3 一次速度的全面革新

OpticStudio 20.3是一场令人兴奋的速度全面革新

  1.  该版本中对核心算法进行了 10 年以来的第一次重大提升,通过对 DLS 算法多线程的改进,阻尼最小二乘法优化速度提升达 3-5 倍!
  2.  新的 ACIS CAD 库不仅提升了使用 CAD 零件的性能还提高了使用 CAD 零件的速度,某些场景下速度提升 ~10 倍!
  3. RCWA DLLS 中新增闪耀光栅 (srg_blaze_RCWA.dll) 和用户自定义光栅 (srg_user_defined_RCWA.dll),并增加了可视化界面,使用户的设计和使用更为方便快捷。

2020 年 12 月 2 日
14:00 - 15:00

谷晨风, Zemax 解决方案工程师

OpticStudio 20.3 一次速度的全面革新
OpticStudio 20.3
一次速度的全面革新

2020 年 12 月 2 日
14:00 -15:00

 


使用 Zemax OpticStudio  
模拟在净化室中使用 UV-C为口罩消毒

2020 年 12 月 9 日
13:00 - 14:00

 


3D真的来了吗
——三维结构光传感器浅谈

2020 年 12 月 15 日
10:00 - 11:30

 

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