网络研讨会

使用 Zemax OpticStudio 模拟在净化室中使用 UV-C为口罩消毒


在需要重复使用口罩的情况下,对于个人防护装备,特别是口罩进行紫外消毒是很重要的。为了协助开发 UV-C 净化室,我们在 OpticStudio 中搭建了光线追迹模型,包括一个矩形柜子和一个圆柱形容器。在本次研讨会中,我们详述了模型细节并演示了与实验测量结果非常相似的仿真结果。

演讲嘉宾

Jeff Wilde 博士是一位光学技术专家,拥有三十多年为众多公司开发创新产品的经验,涵盖了广泛的应用领域。他还担任斯坦福大学Ginzton实验室的研究顾问,在那里他参与了先进光纤通信技术、光学超分辨率成像的研究,并帮助建立了用于安全应用的X射线相位对比成像项目。自从 1996 年购买第一套 Zemax 软件以来,Jeff Wilde 博士一直是 Zemax 软件的忠实用户。 

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