网络研讨会

OpticStudio 20.3 一次速度的全面革新

 

OpticStudio 20.3是一场令人兴奋的速度全面革新

  1. 该版本中对核心算法进行了 10 年以来的第一次重大提升,通过对 DLS 算法多线程的改进,阻尼最小二乘法优化速度提升达 3-5 倍!

  2. 新的 ACIS CAD 库不仅提升了使用 CAD 零件的性能还提高了使用 CAD 零件的速度,某些场景下速度提升 ~10 倍!

  3. RCWA DLLS 中新增闪耀光栅 (srg_blaze_RCWA.dll) 和用户自定义光栅 (srg_user_defined_RCWA.dll),并增加了可视化界面,使用户的设计和使用更为方便快捷。

演讲嘉宾:

谷晨风, Zemax 解决方案工程师

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