Zemax上週舉行了我們最新的Envision會議，來自45個國家/地區的1,100多名先進匯聚一堂，討論了為期3天令人興奮的光學和光電行業的最新創新和進步。演講涵蓋了廣泛的應用，從航空航天、國防到消費電子，生命科學和醫學，再到用於自主的光學。杰弗裡·王爾德（Jeffrey Wilde）博士對使用UV-C照明進行口罩淨化的評論中強調了光學在對抗COVID-19中的作用，但在整個會議期間，我清楚地看到了疫情對推動整個產業創新的影響。

疫情加速了對快速有效地生成健壯、可擴展的解決方案的需求，因此必須將可製造性納入產品開發過程的所有階段。 “面向製造的設計”和“設計工具”中的演示均展示了產業如何滿足這一需求，並將模擬與現實世界的知識和理解結合在一起。模擬工具的進步也允許進行更複雜的系統分析和設計，整個會議期間都提供了充分的證據。在對現代光學設計軌道上的自由曲面光學和微光學以及在汽車與消費電子軌道上提供的超表面，繞射光學和數位全像的評論中，這一點尤為突出。越來越需要定制的模擬來創建複雜系統的準確模型，並且在航空航天、國防和生命科學領域都展示了OpticStudio API在實現這種定制上的作用。

我在整個會議期間觀察到的兩個思路是，光學和光電產業先進對當今全球環境做出反應的敏捷性和適應性不斷增強，以及業內下一代領導者的崛起。這些趨勢在小組討論中匯聚在一起，我有幸在會議閉幕式上發表了題為“創新到未來”的演講。該小組的成員來自生命科學，混合實境和3D成像領域的公司創始人。聽到這些年輕的先驅如何開始，如何適應COVID-19對他們的業務的影響以及未來幾年產業的發展方向，這真是令人難以置信的經歷。與這些聰明，有思想的領導者共度時光增加了我對光學和光電產業的興奮和熱情。

Envision 2020是與我們客戶齊聚一堂的絕好機會，我很榮幸能參加這次活動。會議期間，Zemax在我們的客戶強調的創新中扮演的角色也令我感到興奮。借助最新版本的OpticStudio（20.3），我們在與設計和製造設計相關的性能方面進行了重大改進-我們的客戶已經注意到：

“我會說我對 20.3的速度改進感到非常滿意.” Mary Turner, 愛特蒙特光學 (Edmund Optics)

“OpticStudio 20.3讓我震驚。我的非序列追跡速度非常快。不僅如此，多執行緒改進還極大地提高了我對具有復雜性能函數的複雜系統的優化速度。謝謝您在Zemax所做的工作.” Trent Brendel, 亞利桑那大學 (University of Arizona),

正如我在會議第一天的主題演講中所討論的那樣，Zemax將繼續與光學和光電產業的領導者合作，以推動創新。這包括改進雜散光和廣角鏡設計工具，這些工具可用於對用於自治和遙感的光學元件進行建模。這還包括添加新的自由曲面和繞射光學工具，以模擬用於混合實境，LiDAR和其他各種尖端應用的小型化系統。光學和光電是前所未有的激動人心時刻，我很高興能成為旅程的一部分！

如果您錯過了Envision 2020中的任何會議，現在所有Zemax客戶均可按需求取得會議內容。請與您的客戶經理聯繫以取得想了解的會議主題。

Sanjay Gangadhara,
Chief Technology Officer
Zemax