2021年慕尼黑上海光博会将于3月17 - 19日在上海新国际博览中心举办，Zemax 将携全新软件产品在展台W5.5133 亮相，我们将在现场举办两场小型技术讲座，与您分享 Zemax 软件的最新动态，多位 Zemax 工程师会在现场为您进行产品演示并分享他们的专业知识。如您对任何一场讲座感兴趣或想要与 Zemax 工程师进行 1V1 技术交流，欢迎点击这里完成预约。

两场技术讲座详细信息如下：

3月17日 14:00-14:30 全新OpticStudio版本中的优化速度提升及非序列 CAD 光线追迹速率提升
在全新版本的OpticStudio中，我们对于光学设计的分析、优化速度进行了进一步地提升。如今OpticStudio中的优化算法已得到改善，通过提升优化函数调用和计算的速率，对整体优化进行了提速。并且，在后续版本的软件中，将引入利用云计算达成设计目标的功能： High Performance Computing (HPC)，旨在帮助用户利用超强算力的云端计算机快速完成所需分析、优化。此外，在当前最新版本的OpticStudio中，我们在非序列模式内搭载了全新的 ACIS CAD 数据库，使得用户可以基于自定义的CAD物体进行更快速的非序列光线追迹和实时分析。

3月18日 14:00-14:30 可制造性分析与改善
在高规格的要求下保证高良率生产是衡量设计质量的重要指标。在产品设计到量产过程中，公差分析，考虑制造缺陷和对准误差影响，是其中非常重要的一环。 Zemax一直努力给工程师提供接近实际生产的可制造性分析环境。我们将在本场技术讲座中与大家分享软件新增的可制造性分析特性，并展示了如何使用正确的软件产品让可制造性分析更加顺畅和快速。

展会期间，我们还将提供最新版软件的现场试用，为您展示 Zemax 如何帮助您简化工作流程，解决您在设计中遇到的困难以及如何将您的光学产品设计更快地推向市场，欢迎莅临我们的展位 W5.5133。

期待与您在慕尼黑上海光博会相遇！
 
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