我们将在春节过后为大家提供一系列不同主题的网络研讨会，涉及的内容从软件功能讲解到特定光学系统的设计方案，欢迎报名参加我们的网络研讨会，了解更多关于 Zemax 软件的新功能。您也可以参加将于3月举办的慕尼黑上海光博会，在展会现场与我们面对面交流。

让我们来看看这个春天的活动详情。

即将举行的网络研讨会：

• 2 月 24 日：OpticStudio 21.1 关于已知与未知的又一次深耕探索 - Zemax 于 1 月发布了新版软件 OpticStudio 21.1，本次更新，在增强现实和抬头显示市场中有着重要作用的衍射光学相关功能得到了提升，此外，该版本还新增了公差操作数，帮助用户更好的基于真实公差调整设计。 Zemax 解决方案工程师将通过本场网络研讨会为您详解新版本的功能。

• 3 月 10 日：行业洞察：Zemax CTO Sanjay Gangadhara 与 EPIC 技术与创新总监 Jose Pozo 的对谈 - Zemax CTO Sanjay Gangadhara 与 EPIC 技术与创新总监 Jose Pozo 将在本次研讨会中一起探讨生命科学行业令人兴奋的创新。Jose 将与大家分享 EPIC 的成员是如何为医学界做出贡献的，以及在光学设计的帮助下开发出的突破性技术。Sanjay 和 Jose 将展望未来，讨论科学行业的趋势以及光学在行业增长与发展中起到的作用。现在是生命科学界寻求持续创新的最佳时机 —— 千万不要错过这次机会！

• 3 月 17 日：OpticStudio 21.1 新功能介绍 - 用 Kogelnik 的方法模拟体全息光栅的衍射效率 - Zemax 光学工程师将为您详细介绍 21.1 版本中新的原生体全息功能，包含 Kogelnik 理论介绍与实际范例，以及可用于设计 HUD 和 HMD 等系统中所需要的元件。

即将举行的线下活动：

• 3 月 17 日 - 3 月 19 日：慕尼黑上海光博会 - Zemax 将携全新软件产品在展台 W5.5133 亮相，我们将在现场举办两场小型技术讲座，与您分享 Zemax 软件的最新动态，多位 Zemax 工程师会在现场为您进行产品演示并分享他们的专业知识。

希望以上活动有你感兴趣的内容，我们期待能够在上述活动中与你产生互动，并帮助你发现如何更好地将 Zemax 软件产品运用到你的项目中的方法。研讨会名额有限，欲报从速！