2021年1月21日

Zemax推出原生繞射計算和新分析功能

Category: Product News
Zemax推出原生繞射計算和新分析功能

OpticStudio 21.1提供了新的繞射計算和兩個新的公差設置操作數。
OpticsBuilder 21.1改進了分析功能,並包含完整的Zemax玻璃目錄。

Zemax宣布了其旗艦版OpticStudio®和OpticsBuilder™的最新版本。 Zemax將繼續致力於為客戶提供定期更新,因此於2021年發布三個產品版本,第一個產品發佈於1月(21.1),隨後是5月(21.2)和9月(21.3)。今年,OpticStudio 21.1透過增強繞射光學在擴增實境和平視顯示器市場中的作用,開始了新的一年。此版本還為用戶添加了新的公差操作數,以使設計更容易地與實際裝配方法對齊。此外,此版本還首次推出了兩個新功能實驗,這些實驗改善了針對自動駕駛汽車的廣角線瞄準,並提供了新的優化算法。 OpticsBuilder 21.1允許用戶直接在CAD中添加光源和檢測器,從而改進了光機械裝配分析。

Zemax首席執行官S. Subbiah博士說:“我很高興為Zemax社群提供新功能來開始新的一年。” “我們的客戶不斷突破傳統光學設計的界限,不斷創新。透過在OpticStudio中提供本機繞射光學支持並在OpticsBuilder中提供改進的設計分析,我們的用戶可以繼續克服當前的設計限制。此版本是2021年其他即將令人振奮發布版本的開始。”

OpticStudio:  新繞射計算功能

繞射光學在光學和光子學行業內發生的創新中扮演著越來越重要的角色。 OpticStudio用戶正在引領這項創新。為了支持他們的工作,我們在21.1產品更新中添加了Kogelnik繞射效率計算。這為在模擬平台內對繞射光學的作用建模提供了最全面的解決方案之一。我們很高興看到Zemax社群如何繼續在擴增實境和抬頭顯示器市場中引領繞射光學的角色。

OpticStudio: 新翻滾公差操作數

2020年,OpticStudio提供了新功能,重點在於提高用戶設計和製造光學產品的能力。 OpticStudio 21.1透過引入新的容差操作數來延續此主題。透過添加我們的ROLL公差設置操作數和“徑向偏心”操作數,用戶可以輕鬆設置公差以匹配實際的裝配方法。

OpticsBuilder: 新的分析功能

OpticsBuilder 21.1改進了用戶分析光學系統的方式。透過此版本,用戶現在可以在其光機構設計中包括其他光源和檢測器,以在其CAD平台中進行進一步分析。用戶還可以查看對象的不相干輻照度報告,以此作為檢測器的檢測器,以便在用CAD構建其光學產品時獲得更多見解。此版本還使用戶能夠在其CAD平台中分析設計時取得完整的Zemax玻璃目錄,以獲得更多選擇。

OpticStudio: 功能實驗

用戶還將注意到,OpticStudio 21.1包括幾個新功能實驗。其中包括新的廣角射線瞄準功能和偽二階導數的新優化算法。這些功能實驗是對我們五月份下一個版本計劃中的某些功能的預覽。我們鼓勵用戶嘗試這些功能並與我們分享他們的反饋。

關於 Zemax

Zemax的業界領先的光學產品設計和模擬軟體 OpticStudio®OpticsBuilder™OpticsViewer™可以幫助光學,機構和製造工程團隊將他們的想法變為現實。 Zemax軟體的標準化減少了設計迭代和重複的原型,從而縮短了上市時間並降低了開發成本。 Zemax總部位於華盛頓州柯克蘭,在英國,日本,台灣和中國設有辦事處。有關更多信息,請至 。www.zemax.net.cn